全反射X射線熒光分析儀TXRF技術(shù)可以對(duì)從氧到鈾的所有元素進(jìn)行分析，一次可以對(duì)近30種元素進(jìn)行同時(shí)分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。

一、全反射X射線熒光分析儀介紹

全反射X熒光（TXRF）分析技術(shù)是近年來才發(fā)展起來的多元素同時(shí)分析技術(shù)。一種多功能機(jī)，TXRF利用全反射技術(shù)，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EXRF）本底降低約四個(gè)量級(jí)，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強(qiáng)或減弱效應(yīng)；同時(shí)TXRF技術(shù)又繼承了EXRF方法的*性，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。該技術(shù)被譽(yù)為在分析領(lǐng)域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領(lǐng)域內(nèi)處于地位。

在X熒光譜儀范圍內(nèi)，與波長色散譜儀（RF）方法比較，由于TXRF分析技術(shù)用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強(qiáng)或減弱效應(yīng)，不需要每次對(duì)不同的基體做不同的基體校準(zhǔn)曲線。另外由于使用內(nèi)標(biāo)法，對(duì)環(huán)境溫度等要求很低。因而在簡便性、經(jīng)濟(jì)性、用樣量少等方面，都比RF方法有明顯的*性。

TXRF技術(shù)可以對(duì)從氧到鈾的所有元素進(jìn)行分析，一次可以對(duì)近30種元素進(jìn)行同時(shí)分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質(zhì)譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經(jīng)濟(jì)、多元素同時(shí)分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優(yōu)勢。

TXRF元素分析儀在元素分析領(lǐng)域內(nèi)的應(yīng)用現(xiàn)狀和發(fā)展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛應(yīng)用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫(yī)藥、環(huán)保、法檢、考古、高純材料等等各領(lǐng)域內(nèi)的常量、微量、痕量元素分析測定。特別在半導(dǎo)體工業(yè)中的硅片表面質(zhì)量控制方面，有著不可替代的優(yōu)勢，目前已在上得到廣泛應(yīng)用。單晶體高精度定向

二、全反射X射線熒光分析儀技術(shù)參數(shù)

1．地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻 ；

2．冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承 ；

3．化工：柴油中的硫含量，各種催化劑，陶瓷釉藥；

4. 環(huán)境保護(hù) ：自來水、大氣飄塵、污水污泥；

5．生物：海洋動(dòng)物牙齒和體液 ；

6．醫(yī)藥：頭發(fā)和指甲中的有益有害元素，丹參中有害微量元素 ；

7．食品：飲料中有益和有害元素 ；

8．刑偵法醫(yī)：撞車現(xiàn)場樣品鑒定 。

三、應(yīng)用范圍

1、多元素同時(shí)分析：一次可分析近30種元素；

2、檢出限低：zui低檢出限：pg級(jí)（10-12）；zui低相對(duì)檢出限：ng/mL級(jí)（10-9）；

3、測量元素范圍廣：可以從11號(hào)元素Na到92號(hào)元素U；

樣品用量少， μL、μg級(jí)；

4、粉末樣品、懸浮液樣品、有平面的固體都可直接進(jìn)行分析，zui低檢出限達(dá)到ng/g量級(jí)。

5、可以進(jìn)行無損分析，也可進(jìn)行無標(biāo)樣分析；

6、測量時(shí)間短：一般在10秒－1000秒；

1. 輸入功率：小于500W；

這些儀器,我這里都可以設(shè)計(jì)加工  ,其中部分可以用于晶體雜質(zhì)檢測,  屬于成分分析  

用定向儀，可測例圖

 單晶硅的一個(gè)特殊方向切片 

  人造晶片

硅切片衍射圖（X射線衍射儀測量，比定向儀測量范圍寬，效果好）

 瑪瑙切片

水晶切片